UV光催化氧化反應器

首先廢氣經過 254 納米波段光切割、斷鏈、燃燒、裂解廢氣分子鏈，改變分 子結構，取 185 納米波段光對廢氣分子進行催化氧化，使破壞后的分子或中子、原子以 O3 進行結合，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在催化氧化過程中，轉變成低分子化合物 CO2、H2O 等，再根據不同的廢氣成分配置 27 種以上相對應的惰性催化劑，催化劑采用蜂窩狀金屬網孔作為載體，全方位與光源接觸，惰性催化劑在 338 納米光源以下發生催化反應，放大 10-30 倍光源效果，使其與廢氣進行充分反應，縮短廢氣與光源接觸時間，從而提高廢氣凈化效率。通過 UV 光解后的廢氣凈化效果超過國家GB14554-93《惡臭污染物排放標準》表 2 惡臭污染物排放標準值，接著經過光解處理后的廢氣進入下道工藝。 49F1
利用特制的高能 UV 紫外線光束照射廢氣，裂解工業廢氣如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、乙酸丁酯、乙酸乙酯、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物 H2S、VOC 類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉變成低分子化合物，如 CO2、H2O 等。 49F1
49F1
利用高能 UV 紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游 離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。 UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)，眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對工業廢氣及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。49F1
49F1
廢氣輸入到本凈化設備后，凈化設備運用高能 UV 紫外線 光束及臭氧對工業廢氣進行協同分解氧化反應，使工業廢氣物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出。49F1
利用高能-C 光束裂解工業廢氣中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，徹底達到凈化及殺滅細菌的目的．從凈化空氣效率考慮，我們選擇了-C 波段紫外線和臭氧發結合電暈電流較高化裝置采用脈沖電暈放吸附技術相結合的原理對有害氣體進行消除，其中-C 波段紫外線主要用來去除硫化氫、氨、苯、甲苯、二甲苯、甲醛、乙酸乙酯、乙烷、丙酮、尿烷、樹脂等氣體的分解和裂變，使有機物變為無機化合物。 49F1
49F1
廢氣進入光氧催化氧化設備的條件： 49F1
（1）≦70℃ 49F1
（2）相對潔凈氣體 49F1
（3）設備處理后，尾氣排放達到國家工業排放標準49F1
光敏半導體催化氧化或納米金屬氧化物光催化也是近年來的研究熱點，但該技術的降解效率受控于污染物質與催化劑表面界面擴散速率，而且催化劑價格昂貴、容易中毒失效。光催化設備為非防爆設備，不適用于防爆區域。